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Ion implantation range and ene...
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Ion implantation range and energy deposition distributions /
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Detalles Bibliográficos
Autor principal:
Brice, David K.
Otros Autores:
Winterbon, K. Bruce.
Formato:
Libro
Lenguaje:
Publicado:
New York :
Plenum Press,
[1975]
Materias:
Ion implantation.
Implantación de iones.
Existencias
Descripción
Tabla de Contenidos
Ejemplares similares
Vista Completa
Tabla de Contenidos:
v. 1. High incident ion energies.
v. 2. Low incident ion energies.
Ejemplares similares
Ion beams, with applications to ion implantation /
por: Wilson, Robert G.
Publicado: ([1973])
Ion implantation, sputtering and their applications /
por: Townsend, P. D.
Publicado: (1976.)
Proceedings of the AVS Symposium on Ion Implantation : New Prospects from Materials Modification, 14 June 1978, T. J. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York /
por: AVS Symposium on Ion Implantation--New Prospects for Materials Modification (1978 : Yorktown Heights, N.Y.)
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Ion implantation of semiconductors /
por: Carter, G. 1934-
Publicado: (1976.)
Ion implantation equipment and techniques : proceedings of the third International Conference on Ion Implantation Equipment and Techniques, Queen's University, Kingston, Ontario, 8-ll July 1980 /
por: International Conference on Ion Implantation: Equipment and Techniques (3rd : 1980 : Kingston, Ont.)
Publicado: (1981.)