Vacuum deposition of thin films /

Guardado en:
Detalles Bibliográficos
Autor principal: Holland, L.
Formato: Libro
Lenguaje:
Publicado: New York : Wiley, 1963.
Materias:
LEADER 00566cam#a22001811a#4500
008 820503s1963####nyua##########000#0#eng##
005 20061218114316.0
001 BCCAB003303
003 AR-BCCAB
245 1 0 |a Vacuum deposition of thin films /  |c With a foreward by S. Tolansky. 
260 # # |a New York :  |b Wiley,  |c 1963. 
300 # # |a 555 p. :  |b il. ;  |c 23 cm. 
100 1 # |a Holland, L. 
650 # 0 |a Vapor-plating. 
650 # 7 |a Chapado por vaporizacion  |2 inist 
040 # # |a DLC  |c CU-S  |d OCoLC  |d DLC  |b spa  |d arbccab 
942 # # |c BK 
952 # # |2 udc  |a ARBCCAB  |b ARBCCAB  |i 7317  |o 539.23 H719  |p 7317  |t 1  |y BK