Colloque international sur les applications des faisceaux ioniques à la technologie des semiconducteurs = International Conference on Applications of Ions [sic] Beams to Semiconductor Technology : Grenoble, 24-26 mai, 1967 /
Guardado en:
Autor principal: | |
---|---|
Autor Corporativo: | |
Otros Autores: | |
Formato: | Libro |
Lenguaje: | Francés |
Publicado: |
Gap :
Editions Ophrys,
[1967]
|
Materias: |
Tabla de Contenidos:
- Sources d'ions et optique ionique
- Mesures de profils et canalisations
- Defauts et processus secondaires
- Propriétés électriques des ions
- Fabrication de dispositifs.