Colloque international sur les applications des faisceaux ioniques à la technologie des semiconducteurs = International Conference on Applications of Ions [sic] Beams to Semiconductor Technology : Grenoble, 24-26 mai, 1967 /

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Detalles Bibliográficos
Autor principal: International Conference on Applications of Ion Beams to Semiconductor Technology (1967 : Grenoble, France)
Autor Corporativo: International Conference on Applications of Ion Beams to Semiconductor Technology
Otros Autores: Glotin, Philippe.
Formato: Libro
Lenguaje:
Francés
Publicado: Gap : Editions Ophrys, [1967]
Materias:
Tabla de Contenidos:
  • Sources d'ions et optique ionique
  • Mesures de profils et canalisations
  • Defauts et processus secondaires
  • Propriétés électriques des ions
  • Fabrication de dispositifs.