Proceedings of the 4th International Conference on Reactive Plasmas : October 19-23, 1998, Maui, Hawaii /

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Detalles Bibliográficos
Autor principal: ICRP-4 (1998 : Maui, Hawaii )
Autor Corporativo: ICRP-4
Otros Autores: Kono, A., Nagoya Industrial Research Institute., International Conference on Reactive Plasmas, Symposium on Plasma Processing
Formato: Sin ejemplares
Lenguaje:
Publicado: S.l. : Organizing Committee of ICRP-3/SPP-15, 1999.
Colección:Japanese Journal of Applied Physics ; v. 38, 7B (1999)
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