Ion implantation of semiconductors /

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Detalles Bibliográficos
Autor principal: Carter, G. 1934-
Otros Autores: Grant, W. A. 1941-
Formato: Libro
Lenguaje:
Publicado: London : Edward Arnold, 1976.
Colección:Contemporary electrical engineering
Materias:
LEADER 01099cam#a2200325#a#4500
001 BCCAB000357
008 761220s1976####enka#####b####001#0#eng##
005 20101013161224.0
003 AR-BCCAB
245 1 0 |a Ion implantation of semiconductors /  |c G. Carter, W. A. Grant. 
260 # # |a London :  |b Edward Arnold,  |c 1976. 
300 # # |a viii, 214 p. :  |b il. ;  |c 24 cm. 
490 0 # |a Contemporary electrical engineering 
504 # # |a Incluye referencias bibliográficas e índice. 
020 # # |a 0713133589 :  |c £9.50. 
020 # # |a 0713133651  |b pbk. 
100 1 # |a Carter, G.  |q (George),  |d 1934- 
700 1 # |a Grant, W. A.  |q (William Alexander),  |d 1941- 
080 # # |a 621.382 
650 # 0 |a Semiconductor doping. 
650 # 0 |a Semiconductors  |x Effect of radiation on. 
650 # 0 |a Ion implantation. 
650 # 7 |a Dispositivos semiconductores.  |2 inist 
650 # 7 |a Implantación de iones.  |2 inist 
010 # # |a ###76382870# 
050 0 0 |a TK7871.85  |b .C29 1976b 
040 # # |a DLC  |c DLC  |d DLC  |d ICU  |b spa  |d arbccab 
082 0 0 |a 621.3815/2 
942 # # |c BK 
952 # # |2 udc  |a ARBCCAB  |b ARBCCAB  |i 3108  |o 621.382 C245  |p 3108  |t 1  |y BK