Ion implantation in semiconductors ; proceedings /

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Detalles Bibliográficos
Autor principal: International Conference on Ion Implantation in Semiconductors (2nd : 1971 : Garmisch-Partenkirchen, Germany)
Autor Corporativo: International Conference on Ion Implantation in Semiconductors
Otros Autores: Ruge, I., ed., Graul, J., ed.
Formato: Libro
Lenguaje:
Publicado: Berlin ; New York : Springer-Verlag, 1971.
Materias:
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245 1 0 |a Ion implantation in semiconductors ;  |b proceedings /  |c Edited by I. Ruge and J. Graul. 
260 # # |a Berlin ;  |a New York :  |b Springer-Verlag,  |c 1971. 
300 # # |a 506 p. :  |b il. ;  |c 26 cm. 
504 # # |a Incluye referencias bibliográficas. 
020 # # |a 3540056661 
111 2 # |a International Conference on Ion Implantation in Semiconductors  |n (2nd :  |d 1971 :  |c Garmisch-Partenkirchen, Germany) 
700 1 # |a Ruge, I.,  |e ed. 
700 1 # |a Graul, J.,  |e ed. 
650 # 0 |a Ion implantation  |v Congresses. 
650 # 0 |a Semiconductors  |v Congresses. 
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029 # # |a NLGGC  |b 784630798 
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942 # # |c BK 
952 # # |2 udc  |a ARBCCAB  |b ARBCCAB  |i 7120  |o 621.382:061.3 I8 1971  |p 7120  |t 1  |y BK 
952 # # |2 udc  |a ARBCCAB  |b ARBCCAB  |i 7121  |o 621.382:061.3 I8 1971 Ej.2  |p 7121  |t 2  |y BK