The Second International Symposium on Applied Plasma Science (ISAPS '99) : 20-24 September 1999, Osaka, Japan /

The Second International Symposium on Applied Plasma Science (ISAPS '99) : 20-24 September 1999, Osaka, Japan /

Guardado en:
Detalles Bibliográficos
Autor principal: International Symposium on Applied Plasma Science (2nd : 1999 : Osaka, Japan)
Autor Corporativo: International Symposium on Applied Plasma Science
Otros Autores: Kobayashi, A., Ghoniem, N. M., ed., Matsumura, T., ed.
Formato: Sin ejemplares
Lenguaje:
Publicado: Oxford : Pergamon, c2000.
Materias:
Plasma (Ionized gases) > Congresses.
Particle beams > Congresses.
Descripción
Notas:Issued as: Vacuum, v. 59, no. 1 (Oct. 2000).
"Special issue."
En Portada: Guest Editors: N.M. Ghoniem, T. Matsumura.
Descripción Física:380 p. : il. ; 27 cm.
Bibliografía:Incluye referencias bibliográficas.

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