The Second International Symposium on Applied Plasma Science (ISAPS '99) : 20-24 September 1999, Osaka, Japan /

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Detalles Bibliográficos
Autor principal: International Symposium on Applied Plasma Science (2nd : 1999 : Osaka, Japan)
Autor Corporativo: International Symposium on Applied Plasma Science
Otros Autores: Kobayashi, A., Ghoniem, N. M., ed., Matsumura, T., ed.
Formato: Sin ejemplares
Lenguaje:
Publicado: Oxford : Pergamon, c2000.
Materias:
LEADER 01233cam#a2200313ua#4500
008 001102s2000####enka#####b####100#0#eng#d
005 20060720134825.0
001 BCCAB008049
003 AR-BCCAB
245 1 4 |a The Second International Symposium on Applied Plasma Science (ISAPS '99) :  |b 20-24 September 1999, Osaka, Japan /  |c guest editors, A. Kobayashi ... [et al.]. 
260 # # |a Oxford :  |b Pergamon,  |c c2000. 
300 # # |a 380 p. :  |b il. ;  |c 27 cm. 
504 # # |a Incluye referencias bibliográficas. 
111 2 # |a International Symposium on Applied Plasma Science  |n (2nd :  |d 1999 :  |c Osaka, Japan) 
730 0 # |a Vacuum.  |n Vol. 59, no. 1. 
246 3 0 |a Applied plasma science 
246 3 0 |a ISAPS'99 
650 # 0 |a Plasma (Ionized gases)  |v Congresses. 
650 # 0 |a Particle beams  |v Congresses. 
049 # # |a AR5A 
700 1 # |a Kobayashi, A.  |q (Akira) 
700 1 # |a Ghoniem, N. M.,  |e ed.  |4 edt 
700 1 # |a Matsumura, T.,  |e ed.  |4 edt 
040 # # |a HNK  |c HNK  |d OCLCQ  |b spa  |d arbccab 
500 # # |a Issued as: Vacuum, v. 59, no. 1 (Oct. 2000). 
500 # # |a "Special issue." 
500 # # |a En Portada: Guest Editors: N.M. Ghoniem, T. Matsumura. 
942 # # |c BK 
952 # # |2 udc  |7 NOT_LOAN  |a ARBCCAB  |b ARBCCAB  |i 008049_nuevo-0  |o VACUUM 2000  |p 008049_nuevo-0  |t 1  |y BK