Dielectric thin films for future ULSI devices : science and technology, Tokyo, November 5-7, 2008.
Guardado en:
| Autor principal: | |
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| Autor Corporativo: | |
| Formato: | Sin ejemplares |
| Lenguaje: | Inglés |
| Publicado: |
Tokyo :
The Japan Society of Applied Physics,
2009.
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| Materias: |
| Notas: | Incluye indices. |
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| Descripción Física: | p. : il. ; 30 cm. |
| Bibliografía: | Incluye referencias bibliográficas. |
