Dielectric thin films for future ULSI devices : science and technology, Tokyo, November 5-7, 2008.

Dielectric thin films for future ULSI devices : science and technology, Tokyo, November 5-7, 2008.

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Detalles Bibliográficos
Autor principal: International Workshop on Dielectric Thin Films for Future ULSI Devices (2008 : Tokyo)
Autor Corporativo: International Workshop on Dielectric Thin Films for Future ULSI Devices
Formato: Sin ejemplares
Lenguaje:
Publicado: Tokyo : The Japan Society of Applied Physics, 2009.
Materias:
Thin films > Congresses.
LEADER 00829cam#a22002174a#4500
008 981118s2009####ne#a###f#b####101#0#eng##
005 20100205164423.0
001 BCCAB009386
003 AR-BCCAB
245 1 0 |a Dielectric thin films for future ULSI devices :  |b science and technology, Tokyo, November 5-7, 2008. 
260 # # |a Tokyo :  |b The Japan Society of Applied Physics,  |c 2009. 
300 # # |a p. :  |b il. ;  |c 30 cm. 
504 # # |a Incluye referencias bibliográficas. 
111 2 # |a International Workshop on Dielectric Thin Films for Future ULSI Devices  |d (2008 :  |c Tokyo) 
080 # # |a 669.2/8.69:061.3 
080 # # |a 539.23:061.3 
650 # 0 |a Thin films  |v Congresses. 
040 # # |a arbccab  |b spa 
500 # # |a Incluye indices. 
942 # # |c BK 
952 # # |2 udc  |7 NOT_LOAN  |a ARBCCAB  |b ARBCCAB  |i 009386_nuevo-0  |o JPN. J. APPL. PHYS. 2009  |p 009386_nuevo-0  |t 1  |y BK 

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