Glow discharge processes : sputtering and plasma etching /
Guardado en:
| Autor principal: | |
|---|---|
| Formato: | Libro |
| Lenguaje: | Inglés |
| Publicado: |
New York :
Wiley,
1980.
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | Reseña |
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Instituto Balseiro
| Inventario | Ej. | Ubicación | Disponibilidad | Estado de Circulación |
|---|---|---|---|---|
| 8255 | 1 | 539.231 Ch366 | Sala | Disponible |
